雙工位自耗式真空電弧爐熔煉爐
一、KDH-2000自耗真空電弧爐熔煉爐設(shè)備用途 :
用于 富勒烯,碳納米烯,石墨烯等納米材料的研發(fā)制備生產(chǎn)等使用,也廣泛應(yīng)用于熔煉高熔點(diǎn)金屬/合金,以及材料的提純等
二、KDH-2000 雙工位自耗式真空電弧爐 設(shè)備主要技術(shù)參數(shù):
1、型號: KDH-2000
2、電弧熔煉室:臥式圓筒型真空室
3、真空系統(tǒng)配置:由2X-30旋片式機(jī)械泵、TK-200擴(kuò)散泵、三臺高真空閥門和各種管路組成高真空系統(tǒng)真空度可達(dá)6.7*10-3pa
4、冷態(tài)極限真空度 ≤6.7x10E-3Pa
5、自耗電流:額定電流2000A(電源客戶自備)
6、熔煉工位: 兩工位安裝在同一真空腔室,可獨(dú)立工作
7、工作氣體:Ar氣;
8、電極升降方式:伺服電動升降
9、電極升降速度:慢速升降速度:0~60mm/min
快速升降速度:0-300mm/min
10、引弧方式:高頻引弧
11、爐體側(cè)部開門,裝卸料方便省去上部打開爐蓋裝卸料的不便,爐體上有兩個觀察視窗。可清楚看到爐內(nèi)工作情況,