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小型真空熔煉爐選型

小型真空熔煉爐選型

所屬分類:實(shí)驗(yàn)真空熔煉爐

產(chǎn)品型號:

更新時(shí)間:2023-04-11

描述:小型真空熔煉爐選型可將熔好的試樣傾倒在事先準(zhǔn)備好的錠模內(nèi),澆注出您想要的樣品形狀 配二次加料系統(tǒng):可實(shí)現(xiàn)在熔化過程中加入其他元素,方便您制備出多元化樣品。坩堝容量:50~500g(更換不同線圈實(shí)現(xiàn)不同容量)常規(guī)配置有4個(gè)線圈,分別為50g、200g、500g

詳細(xì)信息

小型真空熔煉爐選型

一·設(shè)備用途

主要供大專院校及科研單位等在真空或保護(hù)氣氛條件下對金屬材料(如不銹鋼、鎳基合金、銅、合金鋼、鎳鈷合金、稀土釹鐵錋等)的熔煉處理,也可進(jìn)行合金鋼的真空精煉處理及精密鑄造。本設(shè)備采用溫控儀表控制電源加熱,測溫采用鉑銠熱電偶,溫度更加精確。

二·特點(diǎn)和功能

1、在熔煉過程中可在不破壞熔煉室真空情況下進(jìn)行測溫、取樣、搗料、觀察、補(bǔ)加料和合金成份調(diào)整等。與此同時(shí)可通過充氣閥充入惰性氣體以控制爐內(nèi)的壓力和氣氛。澆鑄可澆一錠和多錠及裝入預(yù)熱保溫錠模、水冷錠模、砂型箱等以及進(jìn)行澆鑄。
2、加熱電源可采用IGBT中頻電源,IGBT中頻電源是采用串聯(lián)諧振式的中頻感應(yīng)電源,逆變器件為新型IGBT模塊,其主要優(yōu)點(diǎn)有以下幾下方面:
①逆變電壓高,電流小,線路損耗小,此部分比傳統(tǒng)可控硅中頻電源可節(jié)能10%左右。
②功率因數(shù)高,功率因數(shù)始終大于0.9,無功損耗小,此部分比傳統(tǒng)可控硅中頻電源節(jié)能3%~5%。
③高次諧波干擾?。篒GBT晶體管中頻電源的整流部分采用半可控整流方式,直流電壓始終工作在高,不調(diào)導(dǎo)通角,所以它不會產(chǎn)生高次諧波,不會污染電網(wǎng),不會干擾工廠內(nèi)其他電子設(shè)備運(yùn)行。
 ④可恒功率輸出:可控硅中頻電源采用調(diào)壓調(diào)功,而IGBT晶體管中頻電源采用調(diào)頻調(diào)功,不受爐料多少和爐襯厚薄的影響,在整個(gè)熔煉過程中保持恒功率輸出,尤其是生產(chǎn)不銹鋼、銅、鋁等不導(dǎo)磁物質(zhì)時(shí),更顯示它的*性,熔化速度快,減少爐料元素?zé)龘p少,降低成本。

三·小型真空熔煉爐 實(shí)驗(yàn)真空高頻爐 感應(yīng)爐設(shè)備參數(shù)

1· 坩堝容量:50~500g(更換不同線圈實(shí)現(xiàn)不同容量)常規(guī)配置有4個(gè)線圈,分別為50g、200g、500g

2· 冷態(tài)極限真空度:6.67×10E-2Pa(機(jī)械泵+羅茨泵)6.67×10E-3Pa(機(jī)械泵+擴(kuò)散泵)5.0×10E-4Pa(機(jī)械泵+分子泵)

3· 設(shè)備總功率:20Kw;電源電壓:3相380V,50Hz

4· 外形尺寸:1250×1150×1500mm(L×W×H)

5· 設(shè)備總重量:400Kg

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